1、鍍金屬膜層，將待鍍產(chǎn)品傳入裝有金屬靶材的鍍膜腔室，開(kāi)啟泵抽真空及加熱裝置進(jìn)行基底加熱，使得本底真空達(dá)到1×10-3Pa 及達(dá)到80-150℃工藝溫度后，向腔室通入10-1000sccm的氬氣，啟動(dòng)濺射電源，設(shè)置濺射功率1-15KW，鍍膜時(shí)間10-300S，得到厚度為1-100nm的金屬膜層，金屬膜層為銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)、鉻(Cr)等金屬膜層，或鎳銅(NiCu)、鎳鉻(NiCr)等合金膜層;2、鍍低折射率膜層，將鍍完金屬膜層的產(chǎn)品傳入裝有可形成低折射率膜層的靶材鍍膜腔室，加熱達(dá)到80-150℃的工藝溫度，向腔室通入工藝氣體，設(shè)置濺射功率1-15KW，鍍膜時(shí)間1-300S，得到厚度為1-100nm的低折射率膜層，此低折射率膜層為氧化硅、氮化硅等膜層;3、鍍高折射率膜層，將鍍完低折射率膜層的產(chǎn)品傳入裝有可形成高折射率膜層的靶材鍍膜腔室，加熱達(dá)到80-150℃的工藝溫度，向腔室通入工藝氣體，設(shè)置濺射功率1-15KW，鍍膜時(shí)間1-300S，得到厚度為1-100nm的高折射率膜層，所述高折射率膜層為氧化鈦、氮化鈦、氧化鋯、氮化鋯、氧化鈮、氮化鈮、氧化鋅、氧化銦、氧化鋁、氧化鐵、氧化鉻、氮化鉻等膜層，此高低折射膜層的工藝氣體為Ar、N2、O2中的至少一種，其中Ar氣體流量為10-1000sccm，N2氣體流量為10-1000sccm，O2氣體流量為10-1000sccm;4、重復(fù)步驟二和步驟三數(shù)次，得到不同顏色的膜層，重復(fù)步驟二和步驟三的次數(shù)為1-100次。